Российское оборудование для производства интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм входит в число мировых лидеров — разработки такого уровня есть еще у трех компаний во всем мире, рассказал журналистам генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов.

 

Ранее Минпромторг заявил о том, что российские специалисты разработали первые отечественные кластерные установки плазмохимического травления и осаждения для производства микрочипов. Проект по заказу министерства реализовали АО НИИМЭ совместно с АО НИИТМ. Ключевой особенностью является то, что заготовки для чипов обрабатываются без контакта с воздухом, и это увеличивает количество успешно произведенных изделий.

«По факту мы стали сейчас четвертым производителем в мире, который может вообще такие установки производить», — сказал Кравцов.

Он отметил, что на разработку оборудования Минпромторг выделил около 2,5 миллиардов рублей Объем инвестиций ГК «Элемент» он не стал раскрывать, но отметил, что эти средства привлекались на подготовку помещений, строительство.

 

«Такое оборудование не производится сотнями в год. И в наших условиях один-два комплекта в год будет большая победа. Я думаю, что мы подойдем к этому времени, когда эти кластеры будут востребованы… Точно так же работают зарубежные компании — они не производят их сотнями штук, у них также штучные заказы в год», — добавил Кравцов.

 

Как отмечают разработчики, на сегодняшний день техпроцессы с топологическими нормами 28-90 нм на мировом рынке обеспечивает наиболее массовый выпуск микросхем для автомобильной и авиакосмической промышленности, систем автоматизации и управления. Технологические процессы, которые были разработаны в рамках проекта, станут основой в том числе для создания микросхем по топологическим нормам 28 нм — такие микрочипы применяют в автомобилестроении, энергетике, интернете вещей и пользовательской электронике.

 

«Создание первых российских кластерных систем для ПХО и ПХТ – важный практический результат. Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат в том числе перспективную потребность отечественной микроэлектроники. Особую ценность представляет модульность платформы: она позволяет отрабатывать процессы на существующем оборудовании и служит основой для перехода к более тонким техпроцессам», — отметил заместитель министра промышленности и торговли Василий Шпак.

НИИМЭ и НИИТМ входят в Группу компаний «Элемент». ГК «Элемент» — совместное предприятие АФК «Система» и госкорпорации «Ростех».