Идея прямого омывания ядра заключается в том, чтобы поток воды забирал тепло непосредственно у кристалла, однако практическая реализация этой идеи до сих пор сдерживалась факторами риска, которые неизбежно возникают при контакте электронных компонентов с токопроводящей средой, коей является и вода.