Ситроникс» открыл на принадлежащем ему заводе «НИИМЭ и Микрон» в Зеленограде производственную линию для выпуска чипов по технологии 90 нм. Проект был анонсирован в 2009 г. совместно с госкорпорацией Роснано. В создание производства было вложено 16,5 млрд руб., из которых «Ситроникс» и Роснано инвестировали по 6,5 млрд руб., а еще 3 млрд руб. были привлечены в виде займа.

Новая линия дополнит существующую на «Мироне» линию по технологии 180 нм. Суммарная мощность завода достигнет 3 тыс. пластин в месяц с возможностью одновременно производить до 200 разных типономиналов чипов, длительность производственного цикла составит 3 месяца. Сейчас загрузка производства 180 нм составляет 70%, у производства по технологии 90 нм на II квартал текущего года загрузка запланирована на уровне 40%.
Для нового производства были построены чистые комнаты площадью 700 кв. м., общая площадь чистых комнат увеличилась до 3,5 тыс. кв. м. При этом 40% оборудования для технологии 90 нм расположено в помещениях для производства по технологии 180 нм. Всего на «Микроне» теперь 124 единицы оборудования, из которых 45 работают по технологии 90 нм.

Преимущество технологии 90 нм перед 180 нм состоит в меньшей площади микросхем — 7 кв. мкм. против 21 кв. мкм., меньшей длине волны сканера — 193 нм против 248 нм, и 9 уровнях металлизации вместо 5. Также микросхемы, изготовленные по технологии 90 нм, обладают в 3 раза большей степенью интеграции, их быстродействие больше в 1,7 раз, а энергопотребление меньше в 1,5 — 2 раза.